赞中国首台DUV光刻机问世

平安

诗一首/平安

网上摘图（2025.11.01）

芯途如蜀道，难于上青天。

绝术由光刻，精微绘芯田。

技融多域顶，术聚众智研。

西欲谋垄断，扼喉锁铁肩。

华夏凝心力，大智破前沿。

十载磨锋刃，迎难志高悬。

青丝染霜雪，孤灯映夜煎。

书斋熬简牍，破壁闯幽玄。

微光雕纳米，细缕著新篇。

自研入化境，攻坚越险巅。

国器终昂首，关山度黄炎。

复兴长征路，披荆斩棘艰。

万难皆可破，无畏探险川。

寸积凭铢累，风帆满征舷。

光刻机作为芯片制造的核心设备，其制造难度极大，西方对其进行封锁的原因也较为复杂，以下从网上搜集相关知识，对六个问题作简要介绍，以供初步了解和学习参考。

其一，什么是DUV光刻机？ DUV（深紫外）光刻机利用193nm波长深紫外光，将芯片设计图案投射到硅片上，可生产7nm至130nm制程芯片，占全球芯片总产量超60%，广泛应用于家电、汽车、工业控制等领域。其技术路线分为干式（单次曝光最高65nm）和浸没式（通过液体介质提升分辨率，可支持28nm及更先进制程）。

其二，为什么光刻机难制造？光刻机的制造涉及到光学、机械、电子、材料等多个学科领域的顶尖技术。其内部结构极其复杂，包含10万余个零件，需全球超500家供应商协同制造。例如，ASML的EUV光刻机需要使用极紫外光源，这种光源的产生和控制技术难度极高。此外，光刻机需要具备极高的精度，要将电路图案精确地转移到芯片上，误差需控制在纳米级别，这对光学系统、精密运动控制等技术提出了极高的要求。

其三，西方为什么对我进行光刻机封锁？光刻机是半导体产业的关键设备，掌握光刻机技术就相当于掌握了半导体产业的主动权。西方为了维持其在半导体领域的领先地位，遏制中国等新兴国家的科技发展和产业升级，从而对光刻机进行封锁。通过限制光刻机的出口，可以阻碍中国芯片产业的发展，进而影响中国在信息技术、人工智能、5G通信等多个战略领域的发展。

其四，西方是怎么卡我光刻机脖子的？西方主要通过出口管制措施来限制光刻机的出口，如美国主导的技术封锁将限制范围从尖端领域蔓延至成熟制程。此外，西方还通过“维修封锁”来卡脖子，如ASML实施“维修封锁”后，光刻机配件及常规保养需逐案审批，导致中国大陆累计部署的部分ASML光刻机面临配件断供危机，生产良率下降，总价值超800亿美元的设备面临沦为废铁的风险。

其五，中国自主研制光刻机的方法和路径？中国通过“成熟制程夯实基础、先进技术多元探索”的策略，逐步构建自主技术体系。一方面，上海微电子等企业专注于传统光刻技术的研发，其SSX600系列步进扫描投影光刻机已实现90nm及以下制程的稳定量产，并于2025年5月完成交付28nm浸没式光刻机。另一方面，中国科学院光电所、杭州璞璘科技等科研院所和企业则在全固态深紫外激光光源技术、纳米压印光刻等新兴技术路线上进行探索。此外，国内还形成了以佳鼎半导体、东方嘉盛等企业为核心的自主维修力量，破解“维修封锁”。

其六，光刻机自主研制的重大意义？从技术层面看，自主研制光刻机打破了国外在高端光刻装备领域的垄断，使中国成为少数掌握光刻核心技术的国家之一。从产业层面看，它带动了上游核心部件、中游设备制造、下游应用服务的全产业链协同发展，有助于培育一批具备核心竞争力的芯片企业。从国家战略层面看，自主研制光刻机确保了中国在新能源汽车、量子计算等战略领域的芯片供应不受外部限制，维护了国家产业安全与科技安全。